ＵＬＳＩの絶縁膜とか不揮発性メモリに使いたいので
ある程度手間をかけても緻密で、しかも方位をコントロールした
膜が欲しいらしいです＜UV照射
奈良先端の岡村先生が去年電子ビーム照射をやっていたような。。。