ビームスポット径に対して二次電子と特性Ｘ線の発生する範囲って少し違うはずですが
SEM+EDX装置でマッピングした場合、そのへん(画面上位置の整合性)はちゃんと補正されている
ものなのでしょうか？

ま、ウチでやる程度の分析ではそこまで気にする必要は無いかもしれないですが・・・