焼結、焼成させるのは
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0001名無しさん
NGNG0002とおりすがりのセラミスト
NGNG粉末だと材料にならないでしょう・・・。
粉末から、燒結して、”もの”にしないと・・。
かためるのは、拡散しやすくなるし、あと、空孔をへらすためでしょ。
機能性材料で使う場合でも、ある程度、強度はいるからね
0003名無しさん
NGNG0004名無しさん＠１周年
NGNG適当な溶媒に溶かして溶媒を蒸発させる
とかで結晶化できないの？
食塩とかも融点は高いよね？
0005>4
NGNG粉末調整だと共沈法とかもあるな。
問題は、コストと時間と得られた素材の特性かな。
（っていいとこなし？）
何で、食塩で出来ることが、酸化物では出来ないのか、
私も疑問に思います。
で、自分が思い付く、大きく異なっていると思われる点。
食塩はイオン性結晶、酸化物は共有性結晶なんで、結合エネルギーが全然
違う。融点見れば分かると思うけど。
高いっていっても食塩の融点は800℃ぐらい。アルミナは2000℃以上、
ジルコニアやマグネシアは2500℃以上。
あと、溶解度積や、安定イオン種（錯体作っちゃうと溶液中で酸化物にするの難しそう。
水溶液だとヒドロキシド作った方が安定な元素もあるし。）、凝解膠性とかも関係あるかも。
結晶成長性も関係あるのかな？エピタキシャルな成長だと、食塩のような
単純な結晶の方が楽そう。
0006名無しさん＠１周年
NGNGＭＯＣＶＤ、レーザーアブレーションのほかに
溶媒を電解する？とかして作るっていう特許をみたことある。
ＹＢＣＯとかＰＺＴとかＬｉＮｂＯ３とか
この方法で作れたらいいのに。
0007北斗の拳
NGNGｿﾞﾙｰｹﾞﾙ法で溶液から酸化物結晶（チタバリなど）を析出させるのってよくある気がする
0008名無しさん＠１周年
NGNG0009>
NGNG結晶化温度以下で焼成し余分な有機物を除去して、さらに結晶化
する温度で焼成して結晶性のものを得るという形で行います。
例えば7のいうチタバリ薄膜作製においては、成膜した後、一旦
400℃程度で焼成してから、600℃で結晶化させます。なぜいきなり
結晶化させてはいけないかについては有機物が影響するだの適当に
理由がつけられていますが学問的に詳しくやっている論文は見たこ
とがありません。まぁ、「なぜ結晶間の段階で有機物が残存してい
るとマズイのか」というテーマもなかなかやりくいでしょうからねぇ。
00105
NGNG液体から固体として使うと言うのがアりますよね
面白そうですね
0011名無しさん
NGNGあたりまえです。
焼成によって成膜する殆どの薄膜は、有機物の残存によって結晶の方位面が悪化しますし結合強度が下がってしまいます。
研究テーマにするには、基本的過ぎるのでは。
0012＞9，11
NGNGする場合には非常に重要なことであると思われます。
また，ゾル−ゲル方で作製される膜は一般的に非常に薄いために
繰り返しコーティングを行ないますが､このそれぞれのコーティング
段階で400℃前後の結晶化しない程度で仮焼を行ない，最後に一気に
結晶化を行ないます．
この際毎回結晶化していては，膜と膜の界面で結晶方位が整合では
なくなってしまいますからね。
まぁ，11の方の補足ですが。
しかしこのようなテーマは企業レベルでは全く興味の湧かないとこ
ろでしょうが，アカデミックな立場からは非常に重要であると思われ
ますが。
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