酸窒化SiはSiと相性がいいでしょうが誘電率が酸化Siと大差ないのでは？
しかし何故、酸窒化Siが酸化Siよりバリア効果（ゲート電極材料がゲート絶縁膜中へ拡散するのを防ぐ）があるのかわかりません。
結合エネルギーから考えても酸化Siのほうが強いと思うのですが...

早く使えるhigh-k材料が開発されて欲しいです。