>>137
たびたびサンクスです．やっぱりバイアスはダメですか．

今は放電ぎりぎりの０．３Paくらいでスパッタしてます．
とりあえずイオン源つかってみます．酸化物をつけるので
酸素をとばすか，アルゴンで叩くか，とりあえずやってみます．

効果なかったらチャンバをいじって，イオンビームでターゲット
をスパッタできるように変更するつもりです．スパッタレートは
かなり落ちそうですが．．．

溶射はやったことありませんが，粗面ができるイメージがあり
ます．そうでもないんでしょうか？欲しいのは厚さ１０ミクロン程度
で数ｎｍ（ＲＭＳ）の表面粗さです．