薄膜プロセス
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0167名も無きマテリアルさん
NGNG私んとこは、シリコン基板では中性洗剤でよーく洗い、
2〜3回蒸留水で超音波洗浄、2〜3回有機溶媒で超音波洗浄、
で最後に有機溶媒で煮沸させて、一気に基板を取り出すことに
より表面の膜(酸化膜ではない、単なる汚れ)をとり、
すぐにチャンバーのN2パージしたルームに入れて、
セットするんですが。
シリコンでは、どんな洗浄方法があるんでしょうか?
ちなみに、私んとこは、クリーンルームではやってないんです。
完璧な洗浄方法は、やはり酸を使うことなのでしょうか?
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