>>225
別に時期尚早とわ思わないす。Chemical Vapour Deposition (CVD)
というのわ半導体製造に用いる製膜法ととして標準的なもので、特別
に新規の設備投資が必要になるようなものでわ無いす。
むしろIBMのSiLKに必要な、spin-onプロセスの方が特殊なやり方す。